本文源自:金融界
金融界2024年10月26日消息，国家知识产权局信息显示，环晟光伏（江苏）有限公司申请一项名为“用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液、使用方法和应用”的专利，公开号 CN 118813262 A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明公开了用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液、使用方法和应用，其中，用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液中包括 HF、水、HCl、氧化剂和碱抛添加剂。本申请刻蚀液通过刻蚀液中各组分的协同作用，可以在保证硅片正面不被刻蚀液影响的同时，即便硅片边缘掺杂氮化硅、氮氧化硅或者未完全氧化导致硼浓度高时，也能够对硅片侧面和背面进行有效刻蚀，提高硅片的良率和效率。
